納米氧化鋁水性漿料研磨機

研磨分散具有設(shè)計緊湊、實用新型，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細物料理想的加工設(shè)備。

 氧化鋁的核心應(yīng)用

 氧化鋁具有硬度高、化學穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

氧化鋁的分散問題

 近年來，已將超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體te有的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

 在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

 當物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的**因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMSD2000系列研磨分散機，獨特的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SID 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

納米氧化鋁水性漿料研磨機設(shè)備選型表: