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氧化鋁催化劑膠體磨

氧化鋁催化劑膠體磨是針對催化劑制備的專用設備,通過定轉子高速剪切與研磨作用,將氧化鋁物料細化至微米 - 納米級,打破團聚、提升分散均勻性。設備研磨精度高、運行穩(wěn)定,符合催化材料制備標準,適配化工催化等領域,為氧化鋁催化劑的活性提升與性能優(yōu)化提供可靠技術保障。

  • 產品型號:GM2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-10
  • 訪  問  量:35
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詳細介紹

氧化鋁催化劑膠體磨


單組分沉淀法:沉淀劑與一種待沉淀溶液作用制備一組分沉淀物。如氧化鋁載體的制備反應如下:

    Al3+ + OH-→ Al2O3nH2O↓             AlO2- + H3O+ → Al2O3nH2O↓

共沉淀法:兩個以上的組分同時沉淀。如低壓合成甲醇用的三組分催化劑CuO-ZnO-Al2O3的制備:將這三種待沉淀離子的硝酸鹽混合液與Na2CO3并流加入沉淀槽,在強烈攪拌下,在恒定的溫度和近中性的條件下,形成三組分沉淀。再經過后續(xù)處理得三組分催化劑。

均勻沉淀法:先將待沉淀的溶液與沉淀劑母體充分混合為十分均勻的體系,再改變條件,如調節(jié)溫度和時間,逐漸提高 PH,體系中逐漸生成沉淀劑,沉淀緩慢進行,制得顆粒均勻、比較純凈的沉淀物。如Al(OH)3的制備。在鋁鹽溶液中加入尿素溶化混勻,再加熱到90~100℃,此時溶液中各處的尿素同時水解,釋放出OH-,其反應為:

氧化鋁催化劑膠體磨


(NH4)CO3+ 3H2O→2NH4+ + 2OH- + CO2                Al3++ OH- Al(OH)3

超均勻沉淀法:先制成鹽溶液的懸浮層(2~3層),再立即瞬間混合成過飽和的均勻溶液,從而得到超均勻的沉淀物。如硅酸鎳催化劑的制備,順次將硅酸鈉溶液(密度0.0013 )、20%的硝酸鈉溶液(密度0.0012 )、含硝酸鎳和硝酸的溶液(密度0.0011 )在容器中形成三層→立即攪拌形成過飽和溶液→放置數分鐘或數小時,形成均勻的水凝膠或膠凍→自母液分出→水洗、干燥、焙燒→催化劑先驅物。

根據一些行業(yè)的特殊要求,SID 在GM2000系列膠體磨的基礎上又開發(fā)了一款GMS2000高速膠體磨,轉子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。

       超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

       GMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

氧化鋁催化劑膠體磨


     三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

氧化鋁催化劑膠體磨設備選型表:


研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。


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